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刻蝕機可以代替光刻機嗎？為什么中國生產(chǎn)不了光刻機？

刻蝕機和光刻機有什么區別，刻蝕機可以代替光刻機嗎？為什么我國目前還不能生產(chǎn)出先進(jìn)的光刻機？光刻機的原理是什么？

2021-05-06
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匿名用戶(hù)

2021-05-06

　　刻蝕機相對光刻機來(lái)說(shuō)會(huì )比較容易些，光刻機是印上圖案的，刻蝕機要根據圖案刻蝕掉變質(zhì)的部分，留下剩余部分。

　　刻蝕機就相當于在光刻后使用腐蝕液將變質(zhì)的光刻膠腐蝕掉，這樣晶圓表面會(huì )顯出半導體器件和連接的圖形。

　　光刻機就是利用化學(xué)反應原理和物理刻蝕方法，將掩膜版上的電路圖形傳送到單晶的表面或介質(zhì)層上;電路設計圖案直接由光刻技術(shù)決定的。

　　高端的光刻機不是一個(gè)國家在短時(shí)間內可以造出來(lái)的，主要是它集合了全球最好的技術(shù)與人類(lèi)的智慧，國外工程師稱(chēng)一個(gè)零件調整了十年，ASWL總裁曾表示高端的光刻機永遠不可能被中國模仿。

　　但是任何一個(gè)一流工業(yè)強國都不可能單獨做出高科技工業(yè)產(chǎn)品，都是需要不同國家或是多個(gè)國家合作才能完成;比如說(shuō)荷蘭靠自己也是做不出來(lái)的，還有美國、德國、英國、日本等多個(gè)國家的頂尖技術(shù)集合才能產(chǎn)出高端的光刻機。

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